Verantwortlich: Prof. Stefan Tappertzhofen, M.Sc. Raphael Dominik Ahlmann
In diesem Kurs werden vermittelt:
1. Reinraum-, Anlagen- und Vakuumtechnologie
2. Modelle und Verfahren der thermischen Oxidation und Schichtdeposition
3. Lithographie, Ätzprozesse, Dotierung, CMOS-Prozesse, Nachhaltigkeitsaspekte
4. Halbleiter, Verbindungshalbleiter, nanoelektronische Materialien (Quantenpunkte und 1D/2D-Materialien)
5. Charakterisierungs- und Analyseverfahren
In diesem Kurs werden vermittelt:
1. Reinraum-, Anlagen- und Vakuumtechnologie
2. Modelle und Verfahren der thermischen Oxidation und Schichtdeposition
3. Lithographie, Ätzprozesse, Dotierung, CMOS-Prozesse, Nachhaltigkeitsaspekte
4. Halbleiter, Verbindungshalbleiter, nanoelektronische Materialien (Quantenpunkte und 1D/2D-Materialien)
5. Charakterisierungs- und Analyseverfahren
- Lehrende:r: Raphael Dominik Ahlmann
- Lehrende:r: Sarah Emily Beck
- Lehrende:r: Leon Becker
- Lehrende:r: Marion Brünninghaus-Willmes
- Lehrende:r: Philipp Czyba
- Lehrende:r: Sanam Khadijeh Feizi
- Lehrende:r: André Kosak
- Lehrende:r: Céline Lawniczak
- Lehrende:r: Julian Liedtke
- Lehrende:r: Yannik Saßor
- Lehrende:r: Stefan Tappertzhofen