Verantwortlich: Prof. Stefan Tappertzhofen, M.Sc.Timon Runte
In diesem Kurs werden vermittelt:
1. Herstellungsmethoden (Wafer-Herstellung, Deposition, Lithographie, Thermische Oxidation,
Strukturierung, Ionenimplantation)
2. MOS- und Bipolarbauelemente
3. Kurzkanaleffekte (u.a. Drain Induced Barrier Lowering, Sub-Threshold-Verhalten,
Kanallängenmodulation)
4. Skalierung, Leistungsbilanz und Nachhaltigkeit
5. Alternative und neuartige Materialien (Verbindungshalbleiter, 2D-Materialien, Spintronik, Funktionale
Materialien, Material für neuartige Informationsspeicher)
6. Überblick über Analyse- und Charakterisierungsmethoden (Elektrische Charakterisierung,
Elektronenmikroskopie, AFM/STM)
7. In-Memory-Computing und Neuromorphik
8. Neuartige Rechnerarchitekturen, Rekonfigurierbare Logik und Neuromorphik
In diesem Kurs werden vermittelt:
1. Herstellungsmethoden (Wafer-Herstellung, Deposition, Lithographie, Thermische Oxidation,
Strukturierung, Ionenimplantation)
2. MOS- und Bipolarbauelemente
3. Kurzkanaleffekte (u.a. Drain Induced Barrier Lowering, Sub-Threshold-Verhalten,
Kanallängenmodulation)
4. Skalierung, Leistungsbilanz und Nachhaltigkeit
5. Alternative und neuartige Materialien (Verbindungshalbleiter, 2D-Materialien, Spintronik, Funktionale
Materialien, Material für neuartige Informationsspeicher)
6. Überblick über Analyse- und Charakterisierungsmethoden (Elektrische Charakterisierung,
Elektronenmikroskopie, AFM/STM)
7. In-Memory-Computing und Neuromorphik
8. Neuartige Rechnerarchitekturen, Rekonfigurierbare Logik und Neuromorphik
- Lehrende:r: Leon Becker
- Lehrende:r: Marion Brünninghaus-Willmes
- Lehrende:r: Philipp Czyba
- Lehrende:r: Niklas Kolks
- Lehrende:r: André Kosak
- Lehrende:r: Timon Georg Runte
- Lehrende:r: Daniel Staudt
- Lehrende:r: Stefan Tappertzhofen